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Estudio del efecto de diferentes electrodos metálicos en estructuras MOS con dieléctrico de puerta de alta-K (Study of the effect of different metallic electrodes on high-K dielectric MOS structures)

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Período	Descargas
NOTA: Desde junio de 2009 hasta mayo de 2010 inclusive, algunas descargas se han contabilizado erróneamente por duplicado.
Los números entre paréntesis representan los países distintos desde los que se originaron las descargas.
2013 Abr	29	(6)
2013 Mar	19	(8)
2013 Feb	0	(0)
2013 Ene	16	(6)
2012 Dic	15	(7)
2012 Nov	18	(9)
2012 Oct	17	(6)

Descargas por país (deducidas de la dirección IP solicitante) en todos los años

País		Descargas
	United States	49
	Spain	14
	Mexico	12
	Colombia	11
	France	4
	Campus U.C.M.	4
	Peru	3
	Argentina	3
	Costa Rica	2
	Chile	2
	United Kingdom	2
	China	2
	Russian Federation	1
	Brazil	1
	El Salvador	1
	Belarus	1
	Switzerland	1
	Uruguay	1
Total acumulado:		114	descargas de este eprint desde 18 países distintos

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El código original para la generación de estas estadísticas fue desarrollado en la Universidad de Melbourne. Posteriormente, fue modificado y adaptado por Christian McGee y Arthur Sale en la Universidad de Tasmania.