Universidad Complutense de Madrid
E-Prints Complutense

Estudio del efecto de diferentes electrodos metálicos en estructuras MOS con dieléctrico de puerta de alta-K (Study of the effect of different metallic electrodes on high-K dielectric MOS structures)

Impacto

Downloads

Downloads per month over past year



Campillo Iglesias, Bruno (2012) Estudio del efecto de diferentes electrodos metálicos en estructuras MOS con dieléctrico de puerta de alta-K (Study of the effect of different metallic electrodes on high-K dielectric MOS structures). [Trabajo Fin de Máster]

[img] PDF
8MB


Abstract

Los principales temas estudiados en el presente proyecto son:
Evolución de estructuras multi-capa GD_2O_3/SC_2O_3, depositadas por High Pressure Sputtering (HPS), tras ser tratadas con Forming Gas Anneling (FGA) en películas
dieléctricas, amorfas y homogéneas, cuyas propiedades dieléctricas de alta K sugieren que están compuesta por Gd_xSC_2-xO_3 (0<x<2).
Estudio de la compatibilidad de metales de puerta/contacto sobre dieléctricos Gd_xSC_2-xO_3 (0<x<2): Pt, Ta/Pt, Ti/Ta, Pt/Al, Ta/Al, Ti/Ta/Al. Análisis de posibles mecanismos de fallo de los metales de contacto asociado a la no conformidad de películas depositadas por E-BEAM.
Implementación y optimización de procesos de fotolitografía positiva para el comido selectivo de películas de SiO_2.
Reparación y caracterización de equipos de High Pressure Sputtering afectado por problemas de invasión del plasma dentro de los electrodos. [ABSTRACT] The main topics treated in the present project are:
Evolution of multi-stack GD_2O_3/SC_2O_3 structures, grown by High Pressure Sputtering (HPS), after a Forming Gas Annealing (FGA) treatment in dielectric films, amorphous and homogeneous, whose high-K dielectric properties suggest that are composed by Gd_xSC_2-xO_3 (0<x<2).
Compatibility study of gate/contact metals over
Gd_xSC_2-xO_3 (0<x<2) dielectrics: Pt, Ta/Pt, Ti/Ta, Pt/Al, Ta/Al, Ti/Ta/Al. Most-likely failure mechanism analysis of contact metals owing to non-conformal films grown by E-BEAM.
Implementation and optimization of positive photolithography processes for the selective etching of SiO_2 films.
Reparation and characterization of High Pressure Sputtering equipment suffering problems related to plasma invasion of the electrodes.


Item Type:Trabajo Fin de Máster
Additional Information:

Máster en Física Aplicada. Facultad de Ciencias Físicas. Curso 2011-2012.

Directors:
DirectorsDirector email
San Andrés Serrano, Enriqueesas@fis.ucm.es
Feijoo Guerro, Pedro Carlospedronska@fis.ucm.es
Uncontrolled Keywords:Dieléctricos de Alta K, Metal de Puerta, Estructuras MIS, Transistores, MOSFET, Escalado, Curvas C-V, Fotolitografía Positiva, HPS, FGA, Películas no Conformes, High-K Dielectrics, Gate Metal, MIS Structures, MOSFET Transistors, Scaling, C-V Curves, Positive Photolithography, HPS, FGA, Non-conformal films.
Subjects:Sciences > Physics > Electronics
ID Code:16619
Deposited On:08 Oct 2012 15:37
Last Modified:10 Dec 2018 14:58

Origin of downloads

Repository Staff Only: item control page