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Estudio de tecnologías de oxidación de láminas delgadas de gadolinio metálico para su aplicación como aislante de puerta en MOSFETs

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Pampillón Arce, María Ángela (2010) Estudio de tecnologías de oxidación de láminas delgadas de gadolinio metálico para su aplicación como aislante de puerta en MOSFETs. [Trabajo Fin de Máster]

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Item Type:Trabajo Fin de Máster
Additional Information:

Máster en Física Aplicada. Facultad de Ciencias Físicas. Curso 2009-2010

Directors:
DirectorsDirector email
San Andrés Serrano, Enriqueesas@fis.ucm.es
Uncontrolled Keywords:Dieléctricos de Alta-k, Dispositivos MOS, MOSFETs, Óxido de Gadolinio
Palabras clave (otros idiomas):High-k Dielectrics, MOS Devices, MOSFETs, Gadolinium Oxide
Subjects:Sciences > Physics
Sciences > Physics > Electronics
Título del Máster:Máster en Física Aplicada: Especialidad Electrónica
ID Code:27848
Deposited On:08 Jan 2015 09:41
Last Modified:10 Dec 2018 14:58

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