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Crecimiento por epitaxia de haces moleculares de puntos cuánticos de InAs sobre GaAs(001) con control en su lugar de formación para su integración en microcavidades ópticas

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Herranz Zamorano, Jesús (2016) Crecimiento por epitaxia de haces moleculares de puntos cuánticos de InAs sobre GaAs(001) con control en su lugar de formación para su integración en microcavidades ópticas. [Thesis]

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Abstract

Quantum dots (QDs) are structures that show quantum confinement in all three directions of space. In particular semiconductor QDs are nanometric structures and they have great potential in the development of optoelectronic devices [1]. In particular, the optoelectronic devices that exploit the quantum properties of a single nanostructure [2] are of great interest in the field of cryptography and quantum information technologies [3] for their capability to generate non classical light states, such as single photon emission and entangled photon pair generation [4,5] and in the fundamental studies of cavity quantum electrodynamics (cQED) in solid state [6]. The development of this kind of devices exploits in many cases the light-matter coupling that takes place when an emitter is located in a high quality factor optical cavity. For the development of single photon sources, an increment of the emission rate is obtained due to Purcell effect [7]. Nevertheless, the fabrication of single QD-photonic mode coupled systems is nowadays a technological challenge; it is necessary to simultaneously achieve the spectral and spatial matching of the emission of the nanostructure and the photonic mode: the nanostructure emission wavelength should match the spectral position of the fundamental mode of the optical cavity and the nanostructure should be located at the highest electric field intensity of the photonic mode. Among other semiconductor systems, InAs/GaAs has been widely studied because of the high quality InAs quantum dots obtained by epitaxial Stranski-Krastanov selfassembly in GaAs(001) surface [8]. These self-assembled quantum dots (SAQDs) show high structural and optical quality s but they present an important practical drawback as it is not possible to know their nucleation site a priori. Due to the strict requirements for the fabrication of single nanostructure based devices, the development of fabrication processes to obtain site-controlled quantum dot (SCQDs) is mandatory. Establishing scalable fabrication processes of this kind of devices require to a priori define the spatial location of the active nanostructures. 224 Epitaxial growth on nanohole-patterned substrates has been established as the main technological approach to fabricate SCQDs [9,10]. Nanoholes patterned in the substrate surface can act as preferential nucleation sites for QD formation due to the surface chemical potential minima located at the bottom of these nanoholes, which in addition to the incorporation kinetics determines the SCQDs formation. Nevertheless, growth on patterned substrates imposes important limitations compared to the growth of QDs by means of self assembly processes. First, high resolution lithographic techniques are used for the fabrication of the patterned substrates and defects or contamination could be introduced in the substrate surface. Second, standard procedures in epitaxial growth, such as surface oxide thermal desorption and the growth of thick buffer layers, are not suitable for patterned substrates due to the need to preserve the patterned motifs. These limitations result in that the nanostructures are grown in proximity to the regrowth interface, which may degrade the optical properties of the obtained nanostructures [11]. Therefore, it is crucial to study and optimize all processes involved in the fabrication of SCQDs to obtain nanostructures with suitable properties for its practical application in devices. In addition, as many applications require the formation of a single QD at given positions in a reproducible process, it is mandatory to optimize the occupation statistics (number of QDs obtained per pattern motif) in the patterned motifs

Resumen (otros idiomas)

Los puntos cuánticos (QDs, quantum dots) son estructuras que presentan confinamiento cuántico en las tres direcciones del espacio. En particular los QDs de material semiconductor son estructuras de dimensiones nanométricas y tienen un gran potencial en el desarrollo de dispositivos optoelectrónicos [1]. En concreto, aquellos dispositivos que explotan las propiedades de un único QD [2] son de gran interés en el campo de la criptografía y las tecnologías de información cuántica [3] por su capacidad para generar estados no clásicos de luz como la emisión de fotones individuales y pares de fotones entrelazados [4,5] y en el estudio fundamental de la electrodinámica cuántica en cavidad (cQED) en el estado sólido [6]. En muchos casos el desarrollo de estos dispositivos explota el acoplamiento luz-materia que tiene lugar cuando un emisor se encuentra en el interior de una microcavidad óptica de alto factor de calidad. En el caso de un emisor de fotones individuales este acoplamiento produce un incremento de la tasa de emisión de fotones en virtud del efecto Purcell [7]. Sin embargo, la fabricación de un sistema constituido por un único QD acoplado a un modo fotónico de una cavidad óptica es todavía en la actualidad un reto tecnológico pues es necesario lograr simultáneamente el solapamiento espectral y espacial entre la emisión de la nanoestructura y el modo fotónico: la longitud de onda de emisión de la nanoestructura debe coincidir con la posición espectral del modo fundamental de la cavidad óptica y la nanoestructura debe estar localizada en la región de máxima intensidad del campo eléctrico asociado al modo fotónico. Entre otros sistemas semiconductores, el sistema InAs/GaAs ha sido ampliamente estudiado debido a que es posible obtener puntos cuánticos de InAs de alta calidad en la superficie GaAs(001) mediante un proceso de autoensamblado tipo Stranski- Krastanov [8]. Estos puntos cuánticos autoensamblados (SAQDs, self assembled quantum dots) presentan una alta calidad estructural y óptica pero cuentan con una importante limitación práctica ya que su lugar de formación no puede ser conocido a priori. Dados los estrictos requisitos de fabricación de dispositivos basados en nanoestructuras individuales como elemento activo es necesario el desarrollo procesos 235 de fabricación de QDs con control en su lugar de formación (SCQDs, site-controlled quantum dots). Establecer procesos de fabricación escalables de este tipo de dispositivos requiere definir a priori la posición en la que se encuentran las nanoestructuras activas. El crecimiento epitaxial sobre sustratos grabados se ha establecido como la principal estrategia tecnológica para la fabricación de SCQDs [9,10]...

Item Type:Thesis
Additional Information:

Tesis inédita de la Universidad Complutense de Madrid, Facultad de Ciencias Físicas, Departamento de Física de Materiales, leída el 10-12-2015

Directors:
DirectorsDirector email
González Díez, Yolanda
Uncontrolled Keywords:Haces moleculares
Palabras clave (otros idiomas):Molecular beams
Subjects:Sciences > Physics > Materials
ID Code:35621
Deposited On:10 Feb 2016 13:09
Last Modified:10 Feb 2016 13:09

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