Estudio de tecnologías de oxidación de láminas delgadas de gadolinio metálico para su aplicación como aislante de puerta en MOSFETs

Impacto

Downloads

Downloads per month over past year



Pampillón Arce, María Ángela (2010) Estudio de tecnologías de oxidación de láminas delgadas de gadolinio metálico para su aplicación como aislante de puerta en MOSFETs. [Trabajo Fin de Máster]

[thumbnail of Trabajo del máster - Marián.pdf]
Preview
PDF
821kB




Item Type:Trabajo Fin de Máster
Additional Information:

Máster en Física Aplicada. Facultad de Ciencias Físicas. Curso 2009-2010

Directors:
Directors
Director email
San Andrés Serrano, Enrique
esas@fis.ucm.es
Uncontrolled Keywords:Dieléctricos de Alta-k, Dispositivos MOS, MOSFETs, Óxido de Gadolinio
Palabras clave (otros idiomas):High-k Dielectrics, MOS Devices, MOSFETs, Gadolinium Oxide
Subjects:Sciences > Physics
Sciences > Physics > Electronics
Título del Máster:Máster en Física Aplicada: Especialidad Electrónica
ID Code:27848
Deposited On:08 Jan 2015 09:41
Last Modified:10 Dec 2018 14:58

Origin of downloads

Repository Staff Only: item control page